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中国科学院宁波材料技术与工程研究所“功能碳素材料团队”以实现金刚石精密工具的国产化和产业化为目标，最近在CVD（Chemical-Vapor-Deposition:化学气相沉积）单晶金刚石合成方面取得了突破性进展。团队从国产微波等离子体CVD设备设计改造着手，开发了高密度、高稳定性的金刚石沉积装置。与国外设备相比，成本降至百分之三十。团队自主开发了金刚石的生长工艺，即对籽晶进行特殊的处理，同时制备...
Influence of the PVD and CVD technologies on the residual macro-stresses and functional properties of the coated tool ceramics
Tool ceramics PVD CVD
2009/12/14
Purpose: The goal of this work is to compare the macro-stresses as well as mechanical and functional properties of the PVD and CVD coatings deposited on oxide and nitride ceramics tool.
Design/method...
纳米CVD 金刚石的生长及其发光的研究（图）
纳米CVD 金刚石 发光
2009/2/2
自古以来，璀璨夺目的金刚石一直是人们梦寐以求的珍物。而现代科学技术的发展，使人们进一步认识到金刚石集优异的力、热、光、声、电以及化学特性于一身，具有其他材料难以替代的广阔的应用前景。纳米材料特殊的性能展示着它诱人的魅力，我们采用自行设计并进一步改进的热温分布均匀的密排栅状直热丝CVD 法沉积纳米金刚石膜，为其发光性能及纳米金刚石涂层刀具的研究打下基础。
Al2O3担载Fe催化CVD法合成纳米洋葱状富勒烯
纳米洋葱状富勒烯 化学气相沉积法 合成 生长机制
2013/9/26
以Fe/Al2O3作催化剂, 采用化学气相沉积法在400℃下催化裂解乙炔合成了纳米碳材料, 为了去除催化剂载体和残留的催化剂颗粒, 进一步将产物在60℃下于36%的浓盐酸中回流48 h, 并通过扫描电子显微镜、高分辨透射电子显微镜和X射线衍射仪对产物进行了表征. 结果表明: 在400℃下合成了直径在15~50 nm之间、石墨片层呈层状堆积结构的内包Fe3C的纳米洋葱状富勒烯. 进一步将产物在110...
24.CVD法SiC纤维
2008/1/16
24.CVD法SiC纤维
(中国科学院金属研究所)
一、成果内容简介：CVD法SiC纤维是一种高比强、高比模量的先进复合材料高性能增强剂。它具有很好的高温稳定性、抗氧化和耐腐蚀性，同时其成本也比较低，适用于制备树脂基、金属基和陶瓷基复合材料。在航天、航空、船舶、汽车以及体育器械等领域有关广泛的应用前景。 使用射频加热CVD新工艺制备出带有外表面涂层的连续SiC（W芯）纤维，其主要性能达到国...
热丝CVD方法中气体状态参数的二维模拟计算
材料科学基础学科 空间场 模拟计算
2007/10/26
文章摘要：
使用在连续介质中建立的二维流场数学模型，模拟计算了在用HFCVD方法生长金刚石薄膜过程中影响气体温度分布的多个沉积工艺参数，研究了气体的速度和体密度的空间分布。结果表明，在优化工艺参数条件下，高温热丝的热阻塞作用导致气体状态参数的不均匀空间分布；在热丝附近气体的速度大而靠近反应腔体侧壁处小；热丝附近处气体体密度减小而靠近冷反应腔体侧壁处增加，采用...
石墨表面CVD SiC涂层微观结构研究
化学气相沉积 SiC涂层
2013/10/8
研究CH3SiCl3-H2-Ar体系中在石墨表面化学气相沉积SiC涂层工艺,并对涂层形貌进行SEM分析。考察沉积温度、气体比例、气体流量以及稀释气体含量对化学气相沉积SiC涂层的显微结构的影响。结果表明,在温度1100℃,H2:MTS=5:3,气体流量8L/min,稀释气体1L/min时,制备的涂层致密光滑。其中涂层的形貌对温度最敏感,当沉积温度达到1100℃时,CVD SiC涂层表面致密且光滑。