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中国科学院大连化学物理研究所专利：一种双阀激光溅射反应源
中国科学院大连化学物理研究所 专利 激光溅射 反应源
2024/1/22
一种双阀激光溅射反应源，该装置结构由溅射激光，脉冲阀a，脉冲阀b，样品靶，反应通道以及喷嘴组成。该发明具有很强的通用性，不仅可以产生难熔的金属团簇，而且可以产生半导体甚至绝缘体的团簇。系统结构简单，便于维护和操作。