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核物理是通过原子核反应研究物质核微观层次上的基本结构和相互作用,重要核反应的截面一般都非常低,要提高核反应事件率使重离子核物理获得突破性发现,关键瓶颈之一是如何提高加速器的重离子束流强度,提高重离子束流强度的关键是高电荷态离子源。中国科学院近代物理研究所离子源研究组近日在超导高电荷态离子源上产生了一系列高电荷态铀离子束流强度世界新纪录,为近代物理所已开工建设的国家“十二五”重大科技基础设施“强流重...
赵红卫获国际离子源领域最高奖“明亮奖”
赵红卫 离子源 “明亮奖”
2009/10/19
扩展Pierce理论的应用范围, 通过解析求解泊松方程和拉氏方程, 在固定发射面的情况下, 得到了在给定束流强度密度下带状平行束外空间电位分布的一般方法, 可为引出系统的设计提供一定的参考.
单粒子态ECR离子源
电子回旋共振 磁场场形 总束流
2009/5/25
介绍了一台2.45GHz电子回旋共振(ECR)单电荷离子源的磁场场形,以及它和总束流的关系.并且比较了国际上现有的几台同类型离子源的磁场场形.由此得出了关于2.45GHzECR离子源磁场场形的一些结论.
NEC14C测量AMS系统离子源升级
加速器质谱 离子源 球面电离器 引出流强
2009/3/2
为提高样品测量效率,对MC-SNICS多靶位铯溅射负离子源进行了升级改进。改进后的离子源采用球面电离器代替原有的锥面电离器,对供铯系统也进行了比较彻底的改造,通过参数优化,12C-引出流强最大可达近150μA,比原有离子源提高了1倍以上。流强的提高增加了加速器的束载效应,导致纹波变大,对测量稳定性造成一定影响。通过增加主分析磁铁后的光阑孔径和优化束流传输,可使AMS保持高的测量精度,同时对测量本底...
弗瑞曼型重离子源的实验和应用
电磁分离器 重离子源
2008/12/18
弗瑞曼(J.H.Freeman)在1963年改进了Calutron型离子源,研制成功一种新型离子源,即称为弗瑞曼源。此源的特点是无振荡(“hash”),能散度小,可得到极高的分辨;通用性好,能产生各种元素的离子束,流强较大,并且所用的辅助磁场强度小,节省了功率。它原来主要用于扇形同位素分离器,后来,此源在强流离子注入机和离子外延设
激光离子源的首次在线实验结果
激光离子源 在线同位素分离器 元素选择性 同质异能态
2008/1/26
介绍了在线同位素分离器使用激光离子源的重要性、激光离子源原理和相关激光技术,以及热毛细管激光离子源和靶室的结构.在首次在线实验中使用50MeV/u 18O+natTa→167Yb(T1/2=17.5m)反应道,实现了加速器、分离器和激光系统的联合运行.通过测量分离后产物的γ谱,确定了分离后的167Yb的产额,并与从产生截面、束流强度、收集时间和靶厚度计算得到的产生率相比,得到总分离效率约为0.2%...
简单介绍了采用炉子加热、 挥发性金属化合物和溅射产生ECR离子源的金属离子的3种方法和实验结果, 主要研究了铜、 锌、 镍和铁等多种电荷态离子的产生. 对3种方法分别进行了探讨.To satisfy the requirements of HIRFL (Heavy Ion Research Facility in Lanzhou), series of experiments have been ...
高电荷态ECR离子源
电子回旋共振 等离子体 高电荷态 束流强度
2010/2/24
介绍了目前ECR离子源的发展状况和国际上几台典型的ECR离子源.Electron cyclotron resonance (ECR) ion source is the most efficient facility for producing highly charged ions. So far more than 1 emA of O 6+ and 0.02 eμA of U 55+ hav...
一台自制溅射负离子源的改进
溅射源 绝缘法兰 电离器 阴极负载
2010/2/25
自1995年以来,在中科院近物所2MV串列静电加速器上对溅射负离子源进行了调试.调试中对源体作了重大的改进,逐步完善了运行工艺,利用该离子源加速器可长时间提供Li、C、O离子束.Since 1995, the sputter ion source has been tested on the 2 MV tandem accelerator in the Institute of Modern P...
阴极真空弧离子源的研制
真空弧放电 MEVVA离子源 离子注入 表面改性
2010/2/25
为发展金属离子束材料表面改性技术的工业应用,北师大低能核物理所研制成阴极真空弧离子源和离子注入装置.简要介绍该设备的结构、原理和性能.The cathode vacuum arc ion source and ion implantation facility have been developed in our institute for industrial application of su...