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基于氩等离子处理的阻变氧空位调控探讨氧空位等离子阻变 ZnO 无电形成 2022/3/28

以氩气等离子处理为优化工艺，通过其对ZnO阻变薄膜中氧空位缺陷的影响，来改进ZnO薄膜阻变特性。等离子处理范围减小和处理时间延长有助于阻变特性的稳定，以及阻变工作电压的降低。为了降低阻变工作电压及抑制随机性，最终确定的等离子处理条件是时间不超过45min，处理范围介于0.8mm×0.8mm和0.9mm×0.9mm之间。主要的阻变工作电压均在3V以下，适合低功耗器件应用。并结合处理条件和表面粗糙度等...