搜索结果: 1-15 共查到“物理学 多层膜”相关记录31条 . 查询时间(0.275 秒)
极紫外Mg/SiC、Mg/Co多层膜的稳定性
极紫外多层膜 多层膜反射镜 稳定性 湿度
2014/3/11
采用磁控溅射法在Si(100)基底上镀制了膜系结构分别为[Mg/Co]20、[Mg/SiC]20的两组多层膜，以研究Mg基多层膜的稳定性。对放置在室温和80%相对湿度环境下的样品进行显微镜、表面粗糙度和X射线掠入射反射率测试，对比研究了Mg/Co和Mg/SiC两种多层膜结构在相同环境中的损坏状况。对比结果显示：放置4天后，Mg/SiC损坏面积为26.34%，表面粗糙度为10 nm；Mg/Co的损坏...
贮氢金属多层膜制备技术及吸氢性能研究
贮氢金属 镀膜 复合膜 吸氢
2011/8/19
研究了用电子束蒸发方法在Mo底衬上制备Ti-Ni复合膜和在SiO2底衬上制备Mo-Ti-Ni复合膜的方法，用离子束分析方法测量了各膜层的厚度，并对样品的吸氢性能进行了分析。研究发现，Ti膜表面镀Ni后，其吸氢温度降低，吸氢总量增加，表明其吸氢活性增强；Mo-Ti-Ni复合膜在Ti氢化后与SiO2底衬结合良好，并具有较高的强度，但这种膜对底衬的清洁度要求更高；50 nm的Ti膜难以吸氢，原因可能是膜...
基于多层膜技术的硬X射线Laue透镜衍射效率的理论研究
X射线光学 多层膜 耦合波理论
2009/10/15
采用耦合波理论分析了X射线在多层膜Laue透镜中的传播，选择Cu的Kα线作X射线光源，计算了多层膜Laue透镜的衍射效率.材料为WSi2/Si，最外层宽度为10 nm，深度为8 500 nm的多层膜Laue透镜，倾斜情况下外层区域局部光栅的衍射效率可达59%，理论上证明了多层膜Laue透镜是实现X射线聚焦的有效手段.
金属-电介质多层膜结构亚波长成像特性分析
亚波长成像 自准直 金属-电介质多层膜
2009/9/15
分析了由Ag和Si3N4多层纳米薄膜组成的特异材料的模式特性，使用本征模展开法(EME)结合完全匹配层（PML）边界条件模拟了该结构的亚波长成像行为，在法布里-珀罗(Fabry-Perot)条件（结构的长度是半波长的整数倍）条件下，研究发现邻近系统的点源会在另一侧成实像，这种成像基于自准直而并不是负折射.研究结果证实了金属-电介质多层膜结构可以在光波段实现近场成像.
磁控溅射DLC/SiC/Ti多层膜对镁合金摩擦磨损性能的影响
镁基材 薄膜 摩擦磨损 磁控溅射
2013/10/8
采用室温磁控溅射技术在镁合金(AZ91D)表面制备DLC/SiC/Ti(类金刚石/碳化硅/钛)多层膜(SiC,Ti为中间层),研究了薄膜的纳米压痕行为和膜基系统的摩擦磨损性能。试验结果表明:DLC薄膜具有低的纳米硬度(4.01GPa)和低的弹性模量(40.53GPa),但具有高的硬弹比(0.10);膜基系统具有好的摩擦磨损性能;在以氮化硅球为对磨件的室温干摩擦条件下摩擦系数平均约为0.19,与镁合...
报道在北京同步辐射装置上有关固-液界面的研究结果,在漫散射站成功实现了固-液界面的X射线散射测量.将二乙炔酸的异丙醇溶液滴在硅基底表面,溶剂挥发后形成晶态二乙炔酸多层膜.X射线在位观测实验表明,和水长时间接触后,水分子渗透到多层膜亲水界面,样品呈液晶态.在大尺度上分子膜的热起伏符合液晶的线性弹性理论模型,但小尺度上分子的位移主要由缺陷引起.光照聚全后分子膜的弯曲模量变大,缺陷引发的分子位移范围也增...
应用X射线异常散射技术研究了[Ni70Co30(25A)/Cu(20A)]20多层膜的界面结构, 结果表明, 退火前后Cu/Ni70Co30和Ni70Co30/Cu界面的温度行为不同.对于制备态样品, 界面结构是非对称的, 在Cu/Ni70Co30界面, 存在一个8A厚的CuNi3过渡层和一个4A厚的NiCo层. 然而, Ni70Co30/Cu界面却不存在任何扩散. 285\textcelsius...
同步辐射软X射线多层膜反射偏振元件研究
同步辐射 软X射线 多层膜 偏振元件
2009/5/26
利用多靶磁控溅射方法分别镀制了W/C和Mo/Si两种周期性结构多层膜。通过对其相关参数周期数、厚度比以及周期厚度的调整,使薄膜的布拉格衍射峰出现在布儒斯特角附近,两种多层膜的应用能量范围分别落于C的近K边处和Si的L边前。在北京同步辐射装置3W1B光束线的软X射线光学实验站上进行了反射率的测量,得到W/C膜的反射率在214eV时达到4.18%;Mo/Si周期性多层膜的反射率在89eV处达到32.3...
同步辐射异常散射研究超薄金属多层膜
同步辐射 异常散射 金属薄膜
2009/5/26
近些年来,巨磁电阻金属多层膜由于其在信息存储和其它传感器方面的应用而广受关注.但是,由于金属多层膜中每层厚度都很薄,界面及层内微结构研究很困难.本文介绍利用同步辐射异常散射技术和反射技术相结合,研究超薄金属多层膜中元素分布的原理,及其在不同系统中的应用.
采用磁控溅射技术在Si衬底上沉积Si/\[Fe(10 nm)/Nb(4 nm)/Fe(4 nm)/Nb(4 nm)\]2/ \[Fe(4 nm)/Nb(4 nm)\]4多层膜。 用2 MeV的 Xe离子在室温下辐照多层膜。采用俄歇深度剖析、X射线衍射和振动样品磁强计分析辐照引起的多层膜元素分布、 结构及磁性变化。AES深度剖析谱显示当辐照注量达到1.0×1014 ions/cm2时， 多层膜界...
一种利用等离子体X射线激光输出对称性测量X射线多层膜镜反射率的方法
多层膜反射镜 反射率测量 吸收
2009/3/2
从理论上论证了利用平板靶X射线激光两个输出端光强对称的特性来测量X射线多层膜镜反射率的测量方法.针对实验布局中等离子体对X射线激光吸收可能造成测量误差的情况,以保证测量结果千分之一的精确度为基准,从理论上计算获得该方法对不同波长X射线激光的实验布局要求.并依此要求对制得的Mo/Si、Mo/Mg镜的反射率进行了实验测量.
极紫外多层膜残余应力初步研究
极紫外 多层膜 残余应力
2009/2/17
针对极紫外多层膜在激光等离子体诊断、极紫外光刻等方面的应用，进行了Mo/Si多层膜残余应力的实验研究，讨论了多层膜残余应力的成因。实验结果表明：Mo单层膜表现为张应力， Si单层膜表现为压应力；通过传统方法制备的13.0 nm处高反射率的40对Mo/Si多层膜会产生-500 MPa左右的压应力，其压应力主要是由膜层之间的贯穿扩散引起的；通过改变膜层比率可以在一定程度上补偿因贯穿扩散产生的压应力，但...
相变对ZrO2／SiO2多层膜激光损伤阈值的影响
相变 稳定 缺陷 激光损伤阈值
2014/1/7
用电子束蒸发法制备出ZrO2／SiO2和YSZ／SiO2多层膜,分别测定了薄膜结构特性和激光损伤阈值. 实验结果表明：Y2O3稳定的ZrO2镀膜材料在电子束蒸发过程中不会发生相变,而未稳定的ZrO2则必然发生相变产生喷溅,使缺陷增加,从而使损伤阈值降低. 通过分析认为相变引起的缺陷是YSZ／SiO2和ZrO2／SiO2高反膜损伤阈值差别的主要原因.