搜索结果: 1-11 共查到“物理学 电弧离子镀”相关记录11条 . 查询时间(0.118 秒)
中国科学院金属研究所专利:耦合磁场辅助电弧离子镀沉积装置
中国科学院金属研究所 专利 耦合磁场 电弧离子镀 沉积装置
2023/12/26
中国科学院金属研究所专利:一种改善电弧离子镀沉积工艺的动态磁控弧源装置
中国科学院金属研究所 专利 电弧离子镀 沉积工艺 动态磁控弧源
2023/12/25
中国科学院金属研究所专利:PLC可控的旋转横向磁场辅助电弧离子镀设备
中国科学院金属研究所 专利 PLC可控 旋转横向磁场 电弧离子设备
2023/12/25
中国科学院金属研究所专利:多模式可编程调制的旋转横向磁场控制的电弧离子镀装置
中国科学院金属研究所 专利 旋转横向 磁场控制 电弧离子镀
2023/12/21
中国科学院金属研究所专利:一种磁场和电场增强的电弧离子镀长管内壁镀膜方法
中国科学院金属研究所 专利 磁场 电场 电弧离子镀 长管内壁镀膜
2023/9/28
中国科学院金属研究所专利: 一种电弧离子镀铁磁性复合结构靶材
中国科学院金属研究所 专利 电弧离子 镀铁 磁性 复合结构 靶材
2023/9/12
中国科学院金属研究所专利:一种磁控电弧离子镀复合沉积工艺和沉积装置
中国科学院金属研究所 专利 磁控 电弧离子镀 复合沉积工艺 沉积装置
2023/8/21
利用磁过滤电弧离子镀技术在高速钢基体上制备了不同Si含量的Ti-Al-Si-N薄膜, 研究了Si含量对薄膜组织结构以及力学性能的影响. 结果表明, Ti-Al-Si-N薄膜主要由晶态TiAlN和非晶态的Si3N4组成, 随着Si含量的增加, XRD衍射峰强度减弱, 晶粒尺寸减小; 薄膜的显微组织也由明显的柱状晶转变为致密的纳米晶结构. 利用纳米硬度仪对薄膜的硬度和弹性模量进行了分析, 结果表明, ...
研究了电弧离子镀磁性靶材使用过程中发生“跑弧”并导致靶材无法稳定刻蚀的问题. 利用有限元方法(FEM)对外加磁场下非磁性靶材系统和磁性靶材系统中的磁场分布进行了模拟. 研究了外磁场对电弧斑点运动的影响机理, 并结合电弧斑点放电的物理机制, 探讨了磁性靶材与低饱和蒸气压金属靶壳、绝缘陶瓷靶壳或软磁性金属靶壳组成复合结构靶材解决磁性靶材使用问题的可行性. 结果表明, 这3种复合结构靶材设计方案均能有效...