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中国科学院金属研究所专利:一种改善电弧离子镀沉积工艺的动态磁控弧源装置
中国科学院金属研究所 专利 电弧离子镀 沉积工艺 动态磁控弧源
2023/12/25
中国科学院金属研究所专利:一种磁控电弧离子镀复合沉积工艺和沉积装置
中国科学院金属研究所 专利 磁控 电弧离子镀 复合沉积工艺 沉积装置
2023/8/21