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搜索结果: 16-30 共查到物理学 离子源相关记录70条 . 查询时间(0.139 秒)
根据研制分离作用RFQ和升级改造1MeV ISR RFQ的需要,设计了一台ECR O+离子源及低能输运(LEBT)系统. 低能输运系统使用2个静电透镜聚焦束流, 在引出电压22kV时, LEBT末端得到6mA以上总脉冲束流、束流归一化均方根发射度为0.12πmm﹒mrad. 束腰可前后移动160mm.
2007年3月, 为HL-2A中性束注入器研制的大功率离子源在核工业西南物理研究院成功通过了测试. 该离子源为圆柱结构的桶式离子源型; 加速器采用三电极的加减速系统. 实验运行参数如下: 灯丝加热电流1100A, 电压12V, 弧放电电压120V, 弧放电电流1050A, 等离子体密度达2.5×1012/cm3, 离子流密度0.44A/cm2; 在距等离子体电极5mm的平面上, 等离子体的均匀性好...
离子源是强流质子回旋加速器的核心设备之一, 它的性能指标对最终束流大小和质量都有重大影响. 文章介绍了一种运用于强流质子回旋加速器上的多峰场负氢离子源的设计与加工情况, 该离子源主要是通过深入研究高密度等离子体产生技术、长寿命大直流灯丝电子发射技术、磁约束技术、虚拟过虑技术、残留气体与电子剥离的控制技术, 以及离子引出技术等, 在中国原子能科学研究院原有10mA离子源基础上建立负氢离子源, 实验...
磁场可调永磁离子源     永磁磁铁  离子源  磁场可调       2009/8/13
研制了一台磁场可调微波离子源, 在离子源放电室处需要的磁场由一组永久磁铁产生, 永久磁铁外部安装了铁磁回路, 铁磁回路的结构可以很容易的手动调整, 通过调整铁磁回路的结构, 可以在放电室产生要求的磁场. 在调试过程中, 也可以调整铁磁回路以改变离子源内部磁场结构, 有利于获得最佳放电条件. 该源在测试中, 从3mm直径的引出孔引出了17mA的离子束.
为了在HL-2A上实现3MW的中性束注入, 我院自主研制了直径为260mm, 高度为240mm的大功率多磁极会切场离子源. 目前, 它的性能已达到并超过了最初设计指标, 放电脉冲为1s时, 最大离子流密度为0.44A/cm2; 放电脉冲为3s时, 等离子离子流密度0.24A/cm2; 等离子体非均匀性都在5%—7%范围之内. 目前, 它是我国国内等离子体密度最高, 放电功率最大的长脉冲桶式离子源...
离子源引出系统研究     离子源  引出系统  平行束       2009/8/12
扩展Pierce理论的应用范围, 通过解析求解泊松方程和拉氏方程, 在固定发射面的情况下, 得到了在给定束流强度密度下带状平行束外空间电位分布的一般方法, 可为引出系统的设计提供一定的参考.
本文介绍的小型弧放电离子源, 运用了弧放电及电子振荡相结合的原理, 对源的一些基本参量及它们之间的变化关系进行了部分测量. 引出离子流为7mA. 它能产生多电荷离子. 它的引出结构与高频离子源通用. 此源在北京师范大学的400KeV离子注入机上得到了应用, 运行稳定.
RF离子源引出特性的研究     离子源  离子束  聚焦度       2009/7/8
为了使RF离子源具有良好的引出特性, 测试了吸极几何参数、振荡器板压、引出电压对离子源引出特性的影响, 对实验结果进行了分析. 在其他参数不变的情况下, 存在最佳的D/d; 增加D/d,有利于过聚焦的离子束恢复聚焦状态. b/D增大时, 聚焦度上升, 引出束流下降. B/d减小时,聚焦度增大; 当B/d小于4时, 聚焦度增加趋势变缓. 综合考虑聚焦度、引出束流和气压,D/d,b/D,B/d适宜的选...
A new plasma chamber for the Texas A&M 14.5GHz ECR ion source ECR2 has been recently installed and the beam analysis line has been recently upgraded with the replacement of the solenoid with a short...
Since the end of '70s the Electron Cyclotron Resonance ion sources (ECRIS) allowed to increase both the energy and intensity of the beams available from di erent types of accelerators; perspectives f...
强流电子束轰击在辐射转换靶上可产生正离子. 这些离子在电子束空间电荷场作用下回流,对电子束聚焦会有影响,从而可能改变焦斑大小,影响X光机的照相分辨率. 离子种类、离子流的大小是很关注的参量. 本文分析了回流离子来源及其特征,认为回流离子以靶表面杂质热释放后被电子束直接电离生成的离子为主,离子发射受空间电荷限制而非受源限制.

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