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中国科学院大连化学物理研究所专利：强磁场下水热合成装置
中国科学院大连化学物理研究所 专利 强磁场 下水 热合成
2023/12/27
中国科学院大连化学物理研究所专利：强磁场下水热合成装置
中国科学院大连化学物理研究所专利：一种利用高频场对磁约束聚变装置第一壁进行清洗的方法
中国科学院金属研究所专利：一种磁性多孔炭吸附剂及其制备方法
中国科学院金属研究所 专利 磁性 多孔炭吸附剂
2023/12/27
本发明涉及炭吸附剂的制备技术,具体为一种磁性多孔炭吸附剂及其制备方 法。为了实现粉状吸附剂的回收再利用和染料等大分子有机污染物的高效吸附, 在碱性溶液中得到磁性金属氢氧化物胶体并与树脂溶液混合；在此过程中,氢氧 化物胶体是模板,水是树脂的原位析出剂,在液相中直接得到树脂/氢氧化物胶体 的复合体系。除去溶剂后经过炭化和/或活化过程,可制备磁性负载的重量可控、 中孔/大孔尺寸、比例可控的具有的磁性多孔...
中国科学院合肥物质科学研究院专利：一种水冷磁体并联线圈组装工夹具及并联线圈组装工艺
中国科学院合肥物质科学研究院专利：一种强磁场下水热溶剂热合成装置
中国科学院合肥物质科学研究院 专利 强磁场 下水热溶剂 热合成
2023/12/26
中国科学院合肥物质科学研究院专利：一种强磁场下水热溶剂热合成装置
中国科学院金属研究所专利：一种高灵敏度超声波探头
中国科学院金属研究所 专利 高灵敏度 超声波探头
2023/12/26
一种高灵敏度超声波探头,包括连接头(1)、外壳(2)、阻尼块(3)、 电缆线(4)、二极管(5)、声透镜(6)、电缆线(7)；其特征在于：所述 的高灵敏度超声波探头包括2到20个能发射和接收超声波的元件(8)；其 中：连接头(1)与外壳(2)固连,阻尼块(3)固定安装在外壳(2)的 内部,电缆线(4)与二极管(5)相连,安装在外壳(2)的内部,声透镜 (6)安装在能发射和接收超声波的元件(8)的下...
中国科学院金属研究所专利：一种用于管材和/或棒材缺陷检测的探头旋转式超声探伤的耦合装置
中国科学院金属研究所 专利 管材 棒材 缺陷检测 超声探伤 耦合装置
2023/12/26
一种用于管材和/或棒材缺陷检测的探头旋转式超声探伤的耦合装置包 括探头旋转体,1~8个探头,进水道,喷水道,耦合腔,压紧圈,偏心套, 调节螺母,调节螺杆,紧固螺丝1,紧固螺丝2；探头插入调节螺杆中,偏 心套置于压紧圈中,在旋转体中心有一轴向钻孔,在工件进出孔的周围有 1~8个轴向钻孔作为进水通道；在旋转体四周钻有1~8个探头孔,探头孔径 向上靠外端设置探头,探头孔径向上靠近圆心端充水作为耦合腔,在...
中国科学院金属研究所专利：耦合磁场辅助电弧离子镀沉积装置
中国科学院金属研究所 专利 耦合磁场 电弧离子镀 沉积装置
2023/12/26
本实用新型涉及薄膜制备领域,具体地说是一种耦合磁场辅助电弧离子镀沉 积装置,用以提高薄膜的沉积速率和沉积均匀性,减少靶材大颗粒的发射,提高 靶材刻蚀均匀性。本实用新型电弧离子镀沉积装置设有两套磁场发生装置,一套 放置于靶材后面,另一套放置于真空室内,通过两套耦合的磁场发生装置产生的 耦合磁场辅助对基体进行沉积。本实用新型通过两套耦合的磁场发生装置产生的 耦合磁场,解决了传统工艺等离子在传输空间分布...
中国科学院合肥物质科学研究院专利：等离子体破裂防护专用的防磁干扰大气量充气阀
中国科学院合肥物质科学研究院专利：等离子体破裂防护专用的多锂球弹丸精确自动补给系统
中国科学院合肥物质科学研究院专利：一种用于聚变装置液态锂注入的密封结构
中国科学院合肥物质科学研究院 专利 聚变装置 液态锂 密封结构
2023/12/26
中国科学院合肥物质科学研究院专利：一种用于聚变装置液态锂注入的密封结构
中国科学院合肥物质科学研究院专利：一种用于聚变装置内的新型均匀流动液态锂限制器结构
中国科学院合肥物质科学研究院专利：一种用于改善等离子体壁条件的实时锂化壁处理系统
中国科学院金属研究所专利：一种改善电弧离子镀沉积工艺的动态磁控弧源装置
中国科学院金属研究所 专利 电弧离子镀 沉积工艺 动态磁控弧源
2023/12/25
本实用新型涉及薄膜制备领域,具体地说是一种新型的改善电弧离子镀沉积 工艺的动态磁控弧源装置。所述改善电弧离子镀沉积工艺的动态磁控弧源装置设 有动态控制磁场发生装置、靶材、靶材底座,靶材安装于靶材底座上,动态控制 磁场发生装置为主控磁场发生装置和辅助磁场发生装置构成,主控磁场发生装置 放置于靶材后面,和靶材同轴放置,辅助磁场发生装置套在主控磁场发生装置周 围。本实用新型通过两组磁场发生装置配合使用,...
中国科学院金属研究所专利：PLC可控的旋转横向磁场辅助电弧离子镀设备
中国科学院金属研究所 专利 PLC可控 旋转横向磁场 电弧离子设备
2023/12/25
本实用新型涉及薄膜制备领域,具体地说是一种利用旋转磁场控制弧斑运动 的PLC可控的旋转横向磁场辅助电弧离子镀设备。该电弧离子镀设备设有靶材、 旋转磁场装置、电磁线圈、绝缘套、法兰、真空室、基体夹座,真空室内设置基 体夹座、靶材,靶材正面与基体夹座相对,靶材背面设有电磁线圈,置于真空室 外的旋转磁场发生装置套在围绕于靶材之外的法兰套或者炉体管道上,与法兰套 或者炉体管道之间通过绝缘保护。本实用新型通...